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磁控濺射鍍膜設(shè)備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術(shù)融合一體的，可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材，無論是金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜和成膜，使膜層附著力、致密度、重復(fù)度及顏色一致性等特點(diǎn)?？梢藻兘饘倌?，還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。

全SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼機(jī)身，隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì)。

合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性。

采用多路進(jìn)氣系統(tǒng)，精準(zhǔn)控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。

結(jié)合脈沖偏壓技術(shù)，極大提高電粒子能量，從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。

該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于：五金產(chǎn)品、玻璃工藝品、陶瓷工藝品，如衛(wèi)浴產(chǎn)品、手表鐘表、刀具、模具、水晶玻璃、高爾夫球具、燈具、眼鏡框架、瓷磚地板磚等等。

可加工的材料包括：不銹鋼、銅、鐵、鋅合金、鋁、ABS、玻璃、陶瓷等。

可鍍基材表面狀態(tài)：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全啞）、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等。

鍍制顏色有：半透明、金、銀、玫瑰金、黑、深黑、綠、藍(lán)、紫、七彩等。